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一文看懂半導(dǎo)體檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備行業(yè)發(fā)展趨勢(shì):技術(shù)發(fā)展,國(guó)產(chǎn)化空間大

作者:本站編輯      2023-01-12 18:34:50     80
目錄

1泌射、半導(dǎo)體檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備概述

2、檢測(cè)和量測(cè)技術(shù)背景

3鬓照、全球檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備現(xiàn)狀:市場(chǎng)規(guī)模熔酷、細(xì)分市場(chǎng)、技術(shù)結(jié)構(gòu)

4豺裆、中國(guó)檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備現(xiàn)狀

5拒秘、檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)格局

6、發(fā)展趨勢(shì):技術(shù)趨勢(shì)臭猜、國(guó)產(chǎn)化趨勢(shì)






一躺酒、半導(dǎo)體檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備概述






1、產(chǎn)業(yè)概述

檢測(cè)指在晶圓表面上或電路結(jié)構(gòu)中蔑歌,檢測(cè)其是否出現(xiàn)異質(zhì)情況羹应,如顆粒污染、表面劃傷次屠、開短路等對(duì)芯片工藝性能具有不良影響的特征性結(jié)構(gòu)缺陷脆逊;量測(cè)指對(duì)被觀測(cè)的晶圓電路上的結(jié)構(gòu)尺寸和材料特性做出的量化描述,如薄膜厚度拇蟋、關(guān)鍵尺寸棒鞍、刻蝕深度、表面形貌等物理性參數(shù)的量測(cè)蓖搅。

檢測(cè)和量測(cè)應(yīng)用示意圖:
資料來源:中科飛測(cè)招股書截巢,華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院整理

2、分類狀況


從技術(shù)原理上看肘勾,檢測(cè)和量測(cè)包括光學(xué)檢測(cè)技術(shù)、電子束檢測(cè)技術(shù)和X光量測(cè)技術(shù)等兆布。目前箫废,在所有半導(dǎo)體檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備中础姚,應(yīng)用光學(xué)檢測(cè)技術(shù)的設(shè)備占多數(shù)。光學(xué)檢測(cè)技術(shù)基于光學(xué)原理譬功,通過對(duì)光信號(hào)進(jìn)行計(jì)算分析以獲得檢測(cè)結(jié)果填恬。在生產(chǎn)過程中,晶圓表面雜質(zhì)顆粒奋隶、圖案缺陷等問題的檢測(cè)和晶圓薄膜厚度擂送、關(guān)鍵尺寸、套刻精度唯欣、表面形貌的測(cè)量均需用到光學(xué)檢測(cè)技術(shù)嘹吨。

資料來源:公開資料整理






二、檢測(cè)和量測(cè)技術(shù)背景






1境氢、檢測(cè)
在檢測(cè)環(huán)節(jié)蟀拷,光學(xué)檢測(cè)技術(shù)可進(jìn)一步分為無圖形晶圓激光掃描檢測(cè)技術(shù)、圖形晶圓成像檢測(cè)技術(shù)和光刻掩膜板成像檢測(cè)技術(shù)萍聊。

資料來源:公開資料整理

2问芬、量測(cè)

在量測(cè)環(huán)節(jié),光學(xué)檢測(cè)技術(shù)基于光的波動(dòng)性和相干性實(shí)現(xiàn)測(cè)量遠(yuǎn)小于波長(zhǎng)的光學(xué)尺度寿桨,集成電路制造和先進(jìn)封裝環(huán)節(jié)中的量測(cè)主要包括三維形貌量測(cè)此衅、薄膜膜厚量測(cè)、套刻精度量測(cè)亭螟、關(guān)鍵尺寸量測(cè)等挡鞍。

資料來源:公開資料整理






三、全球檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備現(xiàn)狀





1媒佣、市場(chǎng)規(guī)模


全球半導(dǎo)體檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模來看触法,隨著半導(dǎo)體下游消費(fèi)電子和PC等需求2020-2021年市場(chǎng)回暖尤其是2021年明顯增長(zhǎng),量檢測(cè)設(shè)備全球市場(chǎng)空間持續(xù)擴(kuò)張据伏。根據(jù)數(shù)據(jù)展稼,全球市場(chǎng)2020年半導(dǎo)體檢測(cè)與量測(cè)設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模為76.5億美元,2016-2020年CAGR12.6%骏庙,2021年整體半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)大增俩堡,估計(jì)檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備規(guī)模提升明顯。

資料來源:中科飛測(cè)招股書辣棉,華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院整理

2氏诽、細(xì)分市場(chǎng)


量測(cè)設(shè)備細(xì)分品類較多。根據(jù)數(shù)據(jù)狰赘,2020年半導(dǎo)體檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備市場(chǎng)各類設(shè)備占比中壳凳,檢測(cè)設(shè)備包括無圖形晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備、圖形晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備(可細(xì)分為微米級(jí)和納米級(jí))扮人、掩膜檢測(cè)設(shè)備等浆左;量測(cè)設(shè)備包括三維形貌量測(cè)設(shè)備挥闸、薄膜膜厚量測(cè)設(shè)備(晶圓介質(zhì)薄膜量測(cè)設(shè)備)、套刻精度量測(cè)設(shè)備伪节、關(guān)鍵尺寸量測(cè)設(shè)備光羞、掩膜量測(cè)設(shè)備等。

資料來源:中科飛測(cè)招股書怀大,華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院整理

3纱兑、技術(shù)結(jié)構(gòu)


量檢測(cè)設(shè)備分為光學(xué)和電子束技術(shù)路線,其中光學(xué)占主流化借。2020年全球半導(dǎo)體檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備市場(chǎng)中潜慎,光學(xué)、電子束占比分別為75.2%屏鳍、18.7%勘纯。由于下游廠商對(duì)量產(chǎn)高速的需求,光學(xué)檢測(cè)技術(shù)設(shè)備仍然占據(jù)了主要的市場(chǎng)份額钓瞭。

資料來源:中科飛測(cè)招股書驳遵,華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院整理






四、中國(guó)檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備現(xiàn)狀






就國(guó)內(nèi)檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備現(xiàn)狀而言山涡,目前國(guó)內(nèi)整體半導(dǎo)體檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模占比全球市場(chǎng)25%左右且保持持續(xù)提升趨勢(shì)堤结,數(shù)據(jù)顯示,2021年我國(guó)檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備規(guī)模為29億美元爱饲,同比2020年增長(zhǎng)61.1%肢阿,增速遠(yuǎn)高于全球規(guī)模,占比全球份額持續(xù)提升乳嘁,但目前國(guó)內(nèi)市場(chǎng)仍主要被國(guó)際企業(yè)占據(jù)主要市場(chǎng)甸赏,技術(shù)和企業(yè)之間適配性待提升。

資料來源:公開資料整理






五寻适、檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)格局





1藏崇、競(jìng)爭(zhēng)格局

全球半導(dǎo)體檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備市場(chǎng)呈現(xiàn)國(guó)外設(shè)備巨頭壟斷格局。根據(jù)數(shù)據(jù)凤婆,全球市場(chǎng)中短揉,2020年科磊半導(dǎo)體市占率超過50%,應(yīng)用材料非畜、日立刚肠、雷泰光電、創(chuàng)新科技等前五大公司合計(jì)市場(chǎng)份額占比超過了82.4%亦弛,市場(chǎng)集中度較高冒晰。中國(guó)市場(chǎng)中,科磊半導(dǎo)體達(dá)到58.4%,呈一家獨(dú)大格局翩剪,前五大公司合計(jì)市場(chǎng)份額占比達(dá)到78.1%乳怎。

本土企業(yè)市場(chǎng)份額較低,其中中科飛測(cè)產(chǎn)品主要包括無圖形晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備系列前弯、圖形晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備系列、三維形貌測(cè)量設(shè)備系列和薄膜膜厚量測(cè)設(shè)備系列等產(chǎn)品秫逝,已應(yīng)用于國(guó)內(nèi)28nm及以上制程的集成電路制造產(chǎn)線恕出。上海睿勵(lì)致力于集成電路生產(chǎn)前道工藝檢測(cè)領(lǐng)域設(shè)備研發(fā)和生產(chǎn),產(chǎn)品主要為光學(xué)膜厚測(cè)量設(shè)備和光學(xué)缺陷檢測(cè)設(shè)備违帆,以及硅片厚度及翹曲測(cè)量設(shè)備等浙巫。上海精測(cè)半導(dǎo)體前道檢測(cè)設(shè)備領(lǐng)域,以橢圓偏振技術(shù)為核心開發(fā)了適用于半導(dǎo)體工業(yè)應(yīng)用的膜厚測(cè)量以及光學(xué)關(guān)鍵尺寸量測(cè)系統(tǒng)的產(chǎn)品刷后,目前中科飛測(cè)的畴、精測(cè)電子、上海睿勵(lì)2021年在國(guó)內(nèi)檢測(cè)量測(cè)設(shè)備市場(chǎng)份額僅1.9%尝胆、0.7%丧裁、0.2%。

資料來源:中科飛測(cè)招股書环壳,華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院整理

資料來源:中科飛測(cè)招股書央嘱,華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院整理

2、主要企業(yè)


KLA Instruments和 Tencor Instruments相繼成立于1976年和1977年乞瑰,并于1997年合并成立科磊半導(dǎo)體馏纱,總部位于美國(guó)硅谷。該公司聚焦于檢測(cè)設(shè)備的研發(fā)排击、生產(chǎn)和銷售素牌,其產(chǎn)品線涵蓋了質(zhì)量控制全系列設(shè)備。根據(jù)科磊半導(dǎo)體2022年年報(bào)披露顯示患漆,其檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入79.25億美元墓且,占比企業(yè)整體營(yíng)收86%左右。

資料來源:企業(yè)公報(bào)溃柑,華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院整理

康特科技成立于1987牛巴疾,總部位寸以色列米格達(dá)勒埃姆克。該公司是半導(dǎo)體行業(yè)高端檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備的制造商稀境,其產(chǎn)品應(yīng)用于前道玲躯、先進(jìn)封裝等領(lǐng)域,為眾多行業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的全球IDM鳄乏、OSAT和代工廠提供服務(wù)跷车。根據(jù)康特科技2021年年報(bào)披露顯示,其全年實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入2.70億美元,其中檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備營(yíng)收2.59億美元朽缴,占比96.2%善玫。


阿斯麥(荷蘭)量測(cè)業(yè)務(wù)優(yōu)勢(shì)領(lǐng)域在套刻誤差測(cè)量、電子束檢測(cè)密强,應(yīng)用材料(美國(guó))優(yōu)勢(shì)領(lǐng)域也在電子束檢測(cè)茅郎,新星測(cè)量?jī)x器(以色列)優(yōu)勢(shì)領(lǐng)域在膜厚檢測(cè)設(shè)備,日立(日本)則主要是CD-SEM(關(guān)鍵尺寸量測(cè)-電子束)處于行業(yè)領(lǐng)先地位或渤,雷泰光電(日本)則聚焦EUV掩模版檢測(cè)系冗,創(chuàng)新科技(美國(guó))優(yōu)勢(shì)在于關(guān)鍵尺寸測(cè)量和缺陷檢測(cè)。






六薪鹦、發(fā)展趨勢(shì)






1掌敬、技術(shù)趨勢(shì)

隨著集成電路器件物理尺度的縮小同時(shí)逐漸向三維結(jié)構(gòu)發(fā)展,需要檢測(cè)的缺陷尺度和測(cè)量的物理尺度也在不斷縮小的同時(shí)三維空間的檢測(cè)業(yè)在持續(xù)滲透池磁。


為滿足檢測(cè)和量測(cè)技術(shù)向高速度犀刀、高靈敏度、高準(zhǔn)確度捻尉、高重復(fù)性饮茬、高性價(jià)比的發(fā)展趨勢(shì)和要求,行業(yè)內(nèi)進(jìn)行了許多技術(shù)改進(jìn)禾底,例如增強(qiáng)照明的光強(qiáng)磷可、光譜范圍延展至DUV波段、提高光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑据鼓、增加照明和采集的光學(xué)模式荸刁、擴(kuò)大光學(xué)算法和光學(xué)仿真在檢測(cè)和量測(cè)領(lǐng)域的應(yīng)用等,未來隨著集成電路制造技術(shù)的不斷提升弦银,相應(yīng)的檢測(cè)和量測(cè)技術(shù)水平也將持續(xù)提高态措。

2、國(guó)產(chǎn)化趨勢(shì)

整體半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域存在較高的技術(shù)宦衡、資金及產(chǎn)業(yè)協(xié)同等壁壘桑抱。與國(guó)外企業(yè)相比,本土企業(yè)進(jìn)入該領(lǐng)域時(shí)間較晚尼荆,整體實(shí)力和規(guī)模與國(guó)外競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手存在較大差距左腔。然而,經(jīng)過多年來的不懈追趕捅儒,本土企業(yè)技術(shù)水平迅速提高液样,檢測(cè)和量測(cè)設(shè)備從無到有,中科飛測(cè)等國(guó)產(chǎn)企業(yè)帶動(dòng)量檢測(cè)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化持續(xù)突破巧还,目前在28nm已實(shí)現(xiàn)突破并向2Xnm以下節(jié)點(diǎn)推進(jìn)鞭莽。

(文章來源:華經(jīng)情報(bào)網(wǎng))

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